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硅片清洗的操作要點 硅片清洗的工藝流程
日期:2023-02-23 01:30:27    编辑:网络投稿    来源:网络资源
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    1、首先去除硅片表面的有機污染物,因為有機物會覆蓋硅片表面的一部分,導致氧化膜和相關污染物難以去除;

    2、然后溶解氧化膜,因為氧化層是“污染陷阱”,也會引入外延缺陷;最后,顆粒、金屬和其他污染物被去除,硅晶片的表面被鈍化。

    以上就是【硅片清洗如何,硅片的清洗方法】相關內容。

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