等離子體刻蝕技術等離子體刻蝕的目的是什么-太闲吧

大家好，小評來為大家解答以上的問題。等離子體刻蝕，關于等離子體刻蝕的介紹很多人還不知道，現在讓我們一起來看看吧！

1、等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。

2、等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

3、某種程度來講，等離子清洗實質上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。

4、進行干式蝕刻工藝的設備包括反應室、電源、真空部分。

5、工件送入被真空泵抽空的反應室。

6、氣體被導入并與等離子體進行交換。

7、等離子體在工件表面發生反應，反應的揮發性副產物被真空泵抽走。

8、等離子體刻蝕工藝實際上便是一種反應性等離子體工藝。

9、近期的發展是在反應室的內部安裝成擱架形式，這種設計的是富有彈性的，用戶可以移去架子來配置合適的等離子體的蝕刻方法：反應性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（direction plasma）。

本文到此結束，希望對大家有所幫助。